美國海德能公司推薦的常規(guī)清洗液介紹 ① 溶液1: 2.0%（W）檸檬酸（C6H8O7）的低pH清洗液。對于去除無機鹽垢（如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等），金屬氧化物或氫氧化物（鐵、錳、銅、鎳、鋅等），及無機膠體十分有效。市售檸檬酸為粉末固體。 ② 溶液2: 2.0（W）%STPP（三聚磷酸鈉Na5P3O10）和0.8%（W）的Na-EDTA混合的高pH（pH值為10）洗液。它于去除硫酸鈣垢和輕微至中等程度的天然污染物。STPP具有無機螯合劑和洗滌劑的功用。Na-EDTA是一個具有螯合性的螯合清洗劑，可有效去除二價和三價陽離子和金屬離子。市售STPP和Na-EDTA均為粉末固體。 ③ 溶液3: 2.0（W）%STPP（三聚磷酸鈉Na5P3O10）和0.25%（W）的Na-DDBS[十二烷基苯磺酸鈉，C6H5（CH2）12-SO3Na]混合的pH值為10的溶液。該清洗液用于去除重度的天然物（NOM）污染。STPP具有無機螯合劑和洗滌劑的功用，Na-DDBS則為陰離子洗滌劑。 ④ 溶液4:0.5%（W）鹽酸低pH清洗液（pH為2.5），主要用于去除無機物垢（如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等），金屬氧化物/氫氧化物（鐵、錳、銅、鎳、鋁等），及無機膠體。這種清洗液比溶液1要強烈，鹽酸是強酸溶液，配制時需遵守相關注意事項。 ⑤ 溶液5:1.0%（W）連二亞硫酸鈉（Na2S2O4）低pH清洗液（pH=4-6）。它用于去除金屬氧化物和氫氧化物，且可一定程度地去除硫酸鈣、硫酸鋇和硫酸鍶垢。連二亞硫酸鈉是強還原劑，本溶液有強烈氣味需合適通風環(huán)境。連二亞硫酸鈉為粉末固體。 ⑥ 溶液6: 0.1%氫氧化鈉和0.03%（W）SDS（十二烷基硫酸鈉）高pH混合液（pH為11.5）。它用于去除天然污染物、無機/膠體混合污染物和微生物（菌素、藻類、霉菌、真菌）污染。SDS是會產(chǎn)生一些泡沫的陰離子表面活性劑型的洗滌劑。請注意采用此清洗液時不能超過表8.5中的pH值與溫度極限。⑦溶液7: 0.1%（W）氫氧化鈉高pH清洗液（pH為11.5）。用于去除聚合硅垢，這是一種較為強烈的堿性洗液。請注意采用此清洗液時不能超過表5中的pH值與溫度極限。配制藥劑時請遵守相關藥液的注意事項，做好必要的防護措施。表4 污染物質和推薦的清洗溶液
| 污染物 | 常規(guī)化學清洗 | 增強化學清洗 |
| 碳酸鈣垢 | 1 | 4 |
| 硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢 | 2 | 4 |
| 金屬氧化物、金屬氫氧化物 | 1 | 5 |
| 無機膠體污染 | 1 | 4 |
| 無機混合膠體污染 | 2 | 6 |
| 聚合硅垢 | 無 | 7 |
| 生物污染 | 2或3 | 6 |
| 天然污染物 | 2或3 | 6 |
藥品清洗時pH值的范圍受到清洗液水溫的限制。表5給出了在不同溫度下清洗不同膜元件時的pH值的限定范圍。超出這一范圍可能會造成膜元件不可恢復的損壞。洗液pH值和清洗水溫的關系1
| 膜型號 | 清洗液pH值 |
| < 30 ℃ | < 35 ℃ | < 45℃ |
| ESNA1 –K1、ESNA1-LF、ESNA1-LF2 | 2 – 12 | 2 – 11.5 | 3 – 10 |
| YQS-8040、LFC3-LD ESPA1、ESPA4、SWC6 | 2 – 12 | 2 – 11.5 | 2 – 10 |
| ESPA2、ESPA2 MAX | 2 – 12 | 2 – 11.5 | 2 – 10.8 |
| ESPAB、CPA3-LD 、SWC4+、 SWC4B 、SWC5 、SWC5-LD、 SWC5 MAX | 2 – 12.5 | 2 – 12 | 2 – 11.5 |
| PROC10、PROC20 | 1 – 13 | 1 – 12 | 1 – 12 |
| 注意：本表列出的是不同清洗pH范圍對應的清洗水溫。在極限條件下清洗效果會更好，但可能會縮短膜的使用壽命。美國海德能公司建議在確定有效清洗的前提下，采用相對溫和清洗方式或控制好藥液與膜元件的接觸時間。PH表計必須經(jīng)常校正使其讀數(shù)精確。 |
在清洗過程中，污染物會消耗清洗藥品，pH值會因此發(fā)生變化，藥品的清洗能力會降低。因此要隨時監(jiān)測pH值的變化，及時調節(jié)pH值。一般測定pH值偏離于設定pH值0.5以上時，需要添加藥品。3.6 在線化學清洗
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