納米氧化鋅分散機

 納米氧化鋅分散機，氧化鋅分散機，納米氧化鋅研磨分散機，高剪切分散機，納米分散機，研磨式分散機，納米氧化鋅粒徑介于1-100 nm之間，是一種面向21世紀的新型高功能精細無機產(chǎn)品，使其在陶瓷、化工、電子、光學(xué)、生物、醫(yī)藥等許多領(lǐng)域有重要的應(yīng)用價值，具有普通氧化鋅所無法比較的特殊性和用途。

納米級粉末的分散，普遍會出現(xiàn)物料團聚的現(xiàn)象，導(dǎo)致粒徑變大。IKN研磨式分散機，將膠體磨和分散機一體化結(jié)合，先研磨后分散機，解決團聚問題！

CMD2000系列研磨式分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
                

CMD2000系列研磨式分散機的特點：

①   線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④   在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

CMD2000系列設(shè)備選型表

型號	流量 L/H	轉(zhuǎn)速 rpm	線速度 m/s	功率 kw	入/出口連接 DN
CMD2000/4	300	9000	23	2.2	DN25/DN15
CMD2000/5	1000	6000	23	7.5	DN40/DN32
CMD2000/10	2000	4200	23	22	DN80/DN65
CMD2000/20	5000	2850	23	37	DN80/DN65
CMD2000/30	8000	1420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	15000	1100	23	110	DN200/DN150

1.表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

2.處理量取決于物料的粘度，稠度和最終產(chǎn)品的要求。

3.如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準確的參數(shù)，以便選型和定制。

4.本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動，定制而不符，正確的參數(shù)以提供的實物為準.
納米氧化鋅分散機，氧化鋅分散機，納米物料分散機，研磨式分散機，IKN研磨式分散機專業(yè)于納米級物料的分散機，解決團聚問題，還原原始納米粒徑，更高效！

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